外媒最近整理了iPhone 16 Pro的详细配置的爆料信息，表示iPhone 16 Pro和iPhone 16 Pro Max今年将会有30处改进和优化。
除了详细的配置信息的对比，还有爆料称，苹果正测试新的抗反射光学涂层技术，可以减少镜头炫光和鬼影等伪影，从而提高照片质量。
爆料人“yeux1122”最近在Naver博客上爆料称，他从苹果供应链处获悉，苹果目前在测试新的抗反射光学涂层技术。供应链消息称苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中，引入新的原子层沉积（ALD）设备。
根据介绍，原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。
具体到镜头方面：ALD工艺主要用来喷涂抗反射涂层，这有助于减少摄影伪影。例如当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕，而ALD可以减少这些图像失真现象。此外，ALD应用材料可以防止环境对相机镜头系统造成损害，同时又不会影响传感器有效捕捉光线的能力。
